В Китае создали свой фоточувствительный материал для 7-нм техпроцесса

Дабы не зависеть от импортных поставок комплектующих, необходимых для производства микроэлектроники, китайские ученые и инженеры создали свой материал для переноса рисунка схемы на кремний, при этом китайский фоторезист пригоден для 7-нм техпроцесса.

Фоторезистом называют материал, который переносит схему чипа на кремниевую пластину, но до недавнего времени в Китае производились фоторезисты для производственных норм 365 нм и выше. Другие, более современные материалы приходится закупать в США и Японии, но данные поставки могут быть в любой момент прекращены после введения санкций под очередным выдуманным предлогом. Чтобы обезопасить себя, китайские производители электроники решили выпускать у себя весь спектр необходимых материалов.

В списке китайского импортозамещения фоторезист оказался на одной из первых позиций, и вот фирма Nata Opto сообщает о выпуске первой пробной партии материала, пригодного для использования в процессах с нормами от 28 до 7 нм. Правда, начала массовых поставок придется ждать еще три года.